南通卓力达金属科技有限公司

精密电铸加工服务,微米级精度工艺 对标国际水准
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电铸光阑片
  • 电铸光阑片
电铸光阑片
南通卓力达电铸光阑片采用高纯镍无尘电铸一体成型工艺,是精密光学系统核心控光元件,替代激光切割、蚀刻加工光阑片。解决传统加工件孔口毛刺、侧壁粗糙、图形变形、边缘衍射严重等缺陷,无机械切削、无热损伤,微米级成型精度高,孔径轮廓规整,孔壁垂直光滑。可制作孔径光阑、视场光阑、阵列光阑、调光遮光片,支持微孔阵列、异形开孔、超薄薄片定制,成品平面度好,可做黑化处理减少杂光反射。产品尺寸一致性优异,温变小、稳定性强,广泛应用于光学仪器、机器视觉、医疗光学、显微成像、光谱检测、相机模组等精密光学设备领域。
产品工艺原理 纳米光刻无尘制程,打造高精密无毛刺光学光阑片
电铸光阑片1

电铸光阑片依托原子级电化学沉积成型原理,搭配纳米级光刻对位技术,从根源解决传统加工方式带来的光学缺陷,满足精密光学系统严苛的使用标准。生产环节严格执行光学件无尘生产管控,选用高纯度镍基材,材质致密均匀,内应力低,不易发生形变,温变稳定性强,高低温环境下轮廓尺寸波动小。

采用超高精度光刻制版,准确复刻各类单孔、多孔阵列、异形孔径、复杂曲线轮廓,对位精度可达微米级,图形还原度高,杜绝轮廓失真、孔位偏移等问题。电铸成型阶段通过恒温恒压控制系统匀速沉积镍层,薄片厚度均匀可控,成型后经过精密抛光、去应力、光学黑化处理,降低表面反光,抑制杂散光反射。成品开孔边缘锐利无毛刺、侧壁平整,更大程度削弱衍射干扰,保障光学系统成像与检测稳定性。

产品性能与定制能力 南通卓力达电铸光阑片工艺精度高,定制能力强,完全适配精密光学行业要求。
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微米精度成型

可实现超薄基材、微小孔径、高密度阵列孔、非标准异形开孔加工,孔径与外形尺寸公差控制在微米级别,整片面平面度优异,不易翘曲变形。

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支持按需定制

能够根据客户光路设计需求,定制不同厚度、不同孔径排布、不同外形规格的光阑片,黑化处理可按需选择,进一步降低表面反光。电铸成型无侧蚀,孔径一致性好,批量生产的产品轮廓差异极小,适合大批量光学模组量产。

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耐久性能优良

产品具备良好耐磨性能,长期使用轮廓不易磨损,保障光学设备长时间运行下成像稳定,满足仪器设备持续工作的需求。

应用领域 凭借轮廓锐利、孔壁光滑、低衍射、尺寸稳定的核心优势,电铸光阑片应用场景覆盖众多高端光学领域。
  • 机器视觉行业

    机器视觉行业

    用于工业检测镜头、视觉光源模组,准确控制通光量,提升检测成像清晰度

  • 光谱检测领域

    光谱检测领域

    适配各类光谱仪、光学分析仪器,准确限制光束口径,保障检测数据准确

  • 显微成像领域

    显微成像领域

    用于显微镜光路系统,调控光束大小,消除多余杂光

  • 医疗光学领域

    医疗光学领域

    适配内窥镜、光学检测设备,满足小型化精密光路需求

  • 相机光学模组

    相机光学模组

    适配相机光学模组光路遮光与光束调控,有效抑制杂散光干扰,优化成像质量,保障模组成像一致性。

  • 其他应用场景

    其他应用场景

    同时广泛应用于激光光学、光电传感等场景,是精密光学系统不可或缺的核心遮光控光元件。

研发量产技术实力 深耕光学电铸,攻克微孔成型多项工艺难点
  • 行业深耕经验积淀

  • 迭代工艺工艺迭代

  • 柔性产能快速交付

行业深耕与技术难点攻克

经验积淀

我司深耕精密电铸光学元件多年,专注电铸光阑片、光学遮光片、微结构光学零件研发与量产,熟练攻克微孔成型、复杂轮廓复刻、薄片应力控制、光学黑化处理等技术难点,解决传统光阑片毛刺大、衍射严重、尺寸不稳定等痛点。
工艺持续迭代优化

工艺迭代

针对不同光学设备的光路特点,持续优化电铸沉积工艺、光刻图形补偿以及表面黑化工艺,降低杂光反射,提升边缘锐利度。
定制量产能力与市场客户认可

快速交付

可快速承接新品打样、结构迭代、小批量试样与大批量生产订单,改版周期短,产品一致性高,获得光学仪器、机器视觉、医疗设备厂商的认可。
源头厂家配套实力全流程自主管控,电铸光阑片一站式定制
厂家实力

无尘产线自主管控

作为长三角电铸光学元件源头厂家,南通卓力达配备无尘电铸产线与精密光学检测设备,光刻制版、电铸成型、抛光、黑化处理、尺寸检测全流程自主管控,严格把控产品精度。

电铸工艺优势突出

对比激光切割与蚀刻工艺,电铸一体成型无热影响区,边缘质量佳,有效减少衍射问题。

专属方案定制服务

技术团队可依据客户光路图纸、孔径参数、使用环境定制专属光阑片方案,助力客户优化光学成像效果,减少杂光干扰,提升设备检测精度。持续为精密光学行业提供高精度、低杂光、高一致性的电铸光阑片一站式定制加工服务。

电铸工艺流程 七大连续工序完成精密金属成型,依托 LDI 紫外光刻与电沉积工艺,稳定制备超薄、微孔类精密元件。
1-基板清洗
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基板清洗

对金属板基材进行清洗、脱脂除油处理。

2-光刻胶涂布
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光刻胶涂布

在基材表面涂覆一层感光涂层,即光刻胶。

3-曝光
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曝光

采用紫外激光直接成像(LDI)对基材曝光,将 CAD 零件图形投射并转移至基材表面。曝光区域内光刻胶发生固化,使图形化的基材表面划分出导电区与非导电区。

4-显影
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显影

对图形化基材做显影处理,去除未曝光的光刻胶,裸露出导电区域;随后冲洗、烘干。完成图形化处理的基材自此称作母模(零件模芯)。

5-电沉积
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电沉积

电沉积工序在电解槽内完成,包含阳极、阴极两组电极以及电解液。将母模置入电解槽,电极向电解液通入直流电。直流电使金属离子还原为金属原子,原子持续沉积在母模导电区域,直至金属达到目标厚度。

6-脱膜取件
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脱模取件

将电铸成型零件从母模上剥离分离。可通过调整电铸工艺获得不同产品特性。例如:采用薄光刻胶,让金属向外生长,零件厚度大于光刻胶厚度,零件外部轮廓由电沉积成型,该工艺叫做过生长电铸。

7-产品检验
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检验

由持证技术人员使用专用检测设备开展尺寸与外观检测,核实产品符合规格要求。

常见问答 了解电铸光阑片相关疑问
Q1:电铸光阑片相比激光切割、蚀刻光阑片有哪些优势?
A:电铸光阑片采用原子级电化学沉积成型,无热影响区,开孔边缘锐利无毛刺,孔壁平整,能够降低衍射干扰。产品内应力低,不易形变,尺寸稳定性好,可有效改善传统工艺存在的轮廓粗糙、杂散光严重等问题。
Q2:电铸光阑片可以做哪些非标结构定制?
A:支持单孔、多孔阵列、微小孔径、高密度阵列孔以及异形复杂轮廓加工,可按需调整产品厚度、孔径排布、外形尺寸,光学黑化表面处理也可按需选配,适配各类光路设计。
Q3:电铸光阑片的精度和稳定性怎么样?
A:依托纳米级光刻工艺,孔径与外形尺寸达到微米级公差,产品平面度优良,不易翘曲变形。选用高纯镍基材,温变稳定性强,高低温环境下轮廓尺寸波动小,批量生产一致性高。
Q4:电铸光阑片适用哪些领域?
A:广泛应用于机器视觉、光谱检测、显微成像、医疗光学、激光光学、相机光学模组、光电传感等精密光学场景,用于调控光束口径、遮挡杂散光。
Q5:是否支持光阑片打样与批量生产?
A:支持新品打样、结构迭代、小批量试样以及大批量量产。依托自主无尘产线,改版周期短,产品精度稳定,满足光学项目研发与量产需求。
Q6:电铸光阑片长期使用会不会出现变形磨损?
A:基材致密均匀,耐磨性能良好,内应力低,长期运行不易发生轮廓形变与磨损,能够长时间维持光路稳定,保障光学设备持续可靠工作。
为什么选择卓力达 四大核心优势,保障微米级精度与稳定交付
技术

精密电铸技术
微米级加工精度

卓力达掌握高精度精密电铸技术,特聘拥有 30年以上行业经验的国外技术顾问全程驻厂,核心设备全部进口,工艺标准对标欧美成熟体系。 自主研发低应力镍钴镀液配方与脉冲电铸工艺,最小成型孔径可达3μm,尺寸公差控制在 ±1μm,为高端制造定制电铸方案,可实现传统加工无法完成的超细孔阵列、异形结构、高精度光栅制造,是半导体封装、光学仪器等高端领域客户的国产替代厂家。

工艺

蚀刻+电铸+电镀+清洗
全工艺一站式生产

光化学蚀刻 + 精密电铸双工艺一站式加工,全流程内部完成。从原材料到成品交付,蚀刻、电铸、电镀、清洗、表面处理全工艺环节内部完成,无需外发协作,避免多供应商沟通成本与品质推诿,工艺衔接更紧密、品质追溯更完整、综合良率更高,技术团队配合流体测试 / 参数优化,提供全套技术资料与检测报告,降低协调成本。

研发

工艺协同研发
从研发源头保障精密

聘请退休返聘的国外电铸人才,30余年行业经验,直接驻厂提供技术支持与工艺优化;40+人研发工程师团队,南京大学联合材料实验室协作,为客户提供 DFM 可制造性分析、工艺选型建议、材料搭配方案,在产品设计阶段帮客户优化结构、降低成本、提升量产良率,减少设计迭代次数,缩短产品上市周期。

交付

IATF16949&ISO9001双体系
3大生产基地保障交付

深圳、南通、昆山三大制造基地,日产 5000+㎡,支持样品先行测试,常规订单 7-10 天交付,紧急订单可加急。 建立 IATF16949、ISO9001 双体系品控,执行原材料入厂、制程巡检、成品出货 3 重检验,配备二次元影像仪等全维度检测设备,不良品无条件免费补货,保障高端客户供应链稳定可靠。通过 ISO14001 环境体系认证,满足欧美客户 ESG 要求与全球供应链准入标准。

精密电铸加工 微米级成型能力

卓力达精密电铸加工,适用于精密金属滤网、微细孔结构、异形金属件、薄型金属部件及复杂微结构零件制造。
工艺精度高、边缘光洁,可根据图纸、样品或工况需求定制孔径、厚度、材质与表面状态,提供从打样到批量生产的一站式加工服务。