南通卓力达金属科技有限公司

精密电铸加工服务,微米级精度工艺 对标国际水准
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电铸晶圆模板
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电铸晶圆模板
南通卓力达电铸晶圆模板是适配半导体晶圆级封装、倒装芯片、BGA 植球的高精度纯镍电铸模板,专为 8/12 英寸晶圆微纳制程定制,替代传统蚀刻、激光加工模板。解决传统模板孔径不均、孔壁粗糙、应力变形、对位偏差等问题,采用半导体级无尘电铸工艺,原子级沉积一体成型,无机械切削、无高温损伤。微孔阵列精度高、孔壁垂直光滑、张力稳定、厚薄均匀,可准确控制植球量与印刷精度,有效降低封装虚焊、漏球不良率。支持微凸点阵列、超密微孔结构定制,改版灵活、批量一致性优良,热稳定性与耐磨性强,广泛应用于芯片封测、WLP封装、半导体精密植球等高端领域。
产品工艺原理 半导体级无尘电铸制程,实现晶圆模板高精度植球印刷
电铸晶圆模板1

电铸晶圆模板依托精密电化学原子沉积成型原理,结合半导体级光刻对位、无尘精密制程管控,从工艺根源彻底解决传统晶圆模板的加工短板,适配高精度晶圆封装生产需求。整套生产流程遵循半导体精密零部件无尘生产标准,基材选用高纯度氨基磺酸镍材质,材质致密均匀、纯度高、电性稳定、耐磨损抗老化,杜绝基材杂质引发的成型缺陷。

生产前期通过纳米级高精度光刻制版技术,准确复刻晶圆高密度微孔阵列、异形定位孔、对位基准结构,微米级精细对位,杜绝孔位偏移、图形失真、阵列错位等问题。核心成型环节采用智能分段电铸沉积工艺,匀速均匀沉积镍层,全程恒温恒压管控,保障整张模板厚度均匀、内应力低、无隐性形变缺陷。成型后经过多级精密抛光、去应力硬化、纳米防粘耐磨处理,彻底清除板面细微瑕疵,开孔内壁光滑垂直、无毛刺、无侧蚀、无阶梯纹路,有效解决锡膏、锡球残留堆积问题,保障每一次印刷、植球出料均匀稳定,大幅降低封装不良率。

产品核心性能 工艺参数严苛、精度稳定、适配性强,完全对标半导体封装行业标准,可全面适配8寸、12寸大尺寸整片晶圆加工,满足各类高密度、超微孔距晶圆阵列成型需求。
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精度稳定可控

产品整体尺寸公差、孔径公差均可稳定控制在微米级,板体平面度高、张力均匀、长期使用不易翘曲变形,适配全自动晶圆高速印刷、植球设备持续量产。

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支持非标定制

可灵活定制超密微孔阵列、微纳异形开孔、局部加厚减薄、对位基准定位结构等非标结构,针对不同芯片封装工艺、锡膏粒径、植球规格、印刷参数进行专属工艺优化。

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优化产线效能

模板经过硬化与防粘处理,耐磨性能优异、使用寿命更长,不易产生堵孔、积锡问题,大幅减少设备停机擦拭频次,有效提升产线稼动率与量产效率,适配半导体工厂高负荷、高精度、高稳定性的生产要求。

应用领域 凭借高精度、零形变、孔壁光滑、一致性强的核心优势,电铸晶圆模板全面覆盖半导体高端封装核心场景。
  • 晶圆级封装领域

    晶圆级封装领域

    适配 WLP、Fan-out 扇出封装整片晶圆锡膏印刷与微凸点制作,保障整片晶圆工艺一致性,提升芯片封装精度

  • 芯片植球领域

    芯片植球领域

    用于 BGA、CSP、FC 倒装芯片精密植球制程,控制锡球大小与排布间距,杜绝连球、漏球、虚焊问题

  • 高端芯片制造领域

    高端芯片制造领域

    适配车载芯片、工控芯片、通讯芯片、消费电子高端芯片精密封装,满足车规、工规严苛品质标准

  • 半导体科研实验

    半导体科研实验

    适配半导体前沿研发试验需求,可实现微尺度复杂图形成型,满足多类型工艺验证、试样试制,助力科研项目快速迭代

  • 微纳器件加工

    微纳器件加工

    针对微纳级器件的精密加工场景,实现超密微孔、微小异形结构成型,保障微纳器件关键结构的尺寸精度与一致性

  • 精密电子封装

    精密电子封装

    面向各类微型电子元器件封装制程,保障锡膏、胶体均匀涂布,改善印刷偏移、填料不均等问题,提升元器件封装可靠性

半导体电铸模板量产实力 深耕封测领域,攻克多项行业工艺难点
  • 行业深耕经验积淀

  • 迭代工艺工艺迭代

  • 柔性产能快速交付

行业深耕与技术难点攻克

经验积淀

公司深耕半导体电铸精密构件加工多年,专注晶圆模板、半导体精密模板的研发与量产,积累了大量半导体封测企业成熟量产案例,熟练攻克大尺寸晶圆板体变形、高密度微孔成型不均、批量精度偏差、植球出料不稳定等行业核心难点。
工艺持续迭代优化

工艺迭代

针对半导体封装高精度、零缺陷、高一致性的严苛要求,持续优化电铸沉积工艺、光刻对位精度、板面后处理技术,有效提升模板成型精度与使用稳定性。
定制量产能力与市场客户认可

快速交付

可快速承接新品研发打样、工艺迭代改版、大批量稳定量产订单,改版周期短、交付效率高、产品良品率稳定,凭借优良的产品品质与制程适配性,获得众多半导体封装、芯片制造企业的认可与合作。
源头厂家全链条配套能力自主产线工艺加持,提供半导体晶圆模板一站式定制
厂家实力

无尘产线闭环管控

作为长三角地区的半导体电铸晶圆模板源头厂家,南通卓力达配备专属无尘电铸生产车间、微米级精密检测设备与智能化生产系统,从光刻制版、电铸成型、精密处理、精度检测到成品出货,全程自主闭环管控,严格把控每一道生产工序,保障产品精度、品质与交期。

增材工艺核心优势

相较于传统加工工艺,电铸增材工艺无应力、无热损伤、成型精度更高、批量一致性更好,可适配晶圆封装的超高精度制程需求。

定制化解决方案输出

技术团队可根据客户晶圆规格、封装工艺、设备参数、产品需求,定制专属精密晶圆模板解决方案,助力客户提升封装良率、降低生产成本、提速产品量产,持续为半导体高端封装行业提供高精度、高稳定、一站式的电铸晶圆模板定制量产服务。

电铸工艺流程 七大连续工序完成精密金属成型,依托 LDI 紫外光刻与电沉积工艺,稳定制备超薄、微孔类精密元件。
1-基板清洗
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基板清洗

对金属板基材进行清洗、脱脂除油处理。

2-光刻胶涂布
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光刻胶涂布

在基材表面涂覆一层感光涂层,即光刻胶。

3-曝光
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曝光

采用紫外激光直接成像(LDI)对基材曝光,将 CAD 零件图形投射并转移至基材表面。曝光区域内光刻胶发生固化,使图形化的基材表面划分出导电区与非导电区。

4-显影
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显影

对图形化基材做显影处理,去除未曝光的光刻胶,裸露出导电区域;随后冲洗、烘干。完成图形化处理的基材自此称作母模(零件模芯)。

5-电沉积
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电沉积

电沉积工序在电解槽内完成,包含阳极、阴极两组电极以及电解液。将母模置入电解槽,电极向电解液通入直流电。直流电使金属离子还原为金属原子,原子持续沉积在母模导电区域,直至金属达到目标厚度。

6-脱膜取件
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脱模取件

将电铸成型零件从母模上剥离分离。可通过调整电铸工艺获得不同产品特性。例如:采用薄光刻胶,让金属向外生长,零件厚度大于光刻胶厚度,零件外部轮廓由电沉积成型,该工艺叫做过生长电铸。

7-产品检验
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检验

由持证技术人员使用专用检测设备开展尺寸与外观检测,核实产品符合规格要求。

常见问答 了解电铸晶圆模板相关疑问
Q1:电铸晶圆模板采用什么成型原理?
A:依托精密电化学原子沉积成型,搭配半导体级光刻对位以及无尘制程管控,选用高纯度氨基磺酸镍基材,通过电铸沉积、精密后处理得到成品,属于增材制造工艺。
Q2:电铸晶圆模板对比传统模板有哪些优势?
A:无机械应力、无热损伤,开孔内壁垂直光滑,不存在毛刺、侧蚀、阶梯纹路,尺寸与孔径可做到微米级精度,板体平面度佳,不易翘曲变形,能够改善堵孔、积锡、出料不均等封装不良问题。
Q3:电铸晶圆模板可以实现哪些非标结构定制?
A:支持超密微孔阵列、微纳异形开孔、局部加厚减薄、对位基准定位结构定制,可结合芯片封装工艺、锡膏粒径、植球规格、印刷参数做针对性工艺优化。
Q4:电铸晶圆模板主要适用哪些封装场景?
A:可用于 WLP、Fan‑out 扇出封装、BGA、CSP、FC 倒装芯片植球,适配车载、工控、通讯等高要求芯片,同时支持半导体科研实验、微纳器件加工、精密电子封装等场景。
Q5:产品的耐磨与使用寿命表现如何?
A:经过硬化以及纳米防粘耐磨处理,耐磨性能优,减少锡膏、锡球残留堆积,降低设备停机擦拭频次,提升产线稼动率,适配半导体工厂高负荷持续量产。
Q6:是否支持研发打样和快速改版?
A:支持新品研发打样、工艺迭代改版以及大批量量产,依托全流程自主管控,保障交付效率,匹配半导体项目快速开发节奏。
Q7:能否提供针对性的定制方案?
A:技术团队可结合客户晶圆规格、封装工艺、设备参数,输出专属模板解决方案,帮助客户提升封装良率,控制生产成本,加快量产进度。
为什么选择卓力达 四大核心优势,保障微米级精度与稳定交付
技术

精密电铸技术
微米级加工精度

卓力达掌握高精度精密电铸技术,特聘拥有 30年以上行业经验的国外技术顾问全程驻厂,核心设备全部进口,工艺标准对标欧美成熟体系。 自主研发低应力镍钴镀液配方与脉冲电铸工艺,最小成型孔径可达3μm,尺寸公差控制在 ±1μm,为高端制造定制电铸方案,可实现传统加工无法完成的超细孔阵列、异形结构、高精度光栅制造,是半导体封装、光学仪器等高端领域客户的国产替代厂家。

工艺

蚀刻+电铸+电镀+清洗
全工艺一站式生产

光化学蚀刻 + 精密电铸双工艺一站式加工,全流程内部完成。从原材料到成品交付,蚀刻、电铸、电镀、清洗、表面处理全工艺环节内部完成,无需外发协作,避免多供应商沟通成本与品质推诿,工艺衔接更紧密、品质追溯更完整、综合良率更高,技术团队配合流体测试 / 参数优化,提供全套技术资料与检测报告,降低协调成本。

研发

工艺协同研发
从研发源头保障精密

聘请退休返聘的国外电铸人才,30余年行业经验,直接驻厂提供技术支持与工艺优化;40+人研发工程师团队,南京大学联合材料实验室协作,为客户提供 DFM 可制造性分析、工艺选型建议、材料搭配方案,在产品设计阶段帮客户优化结构、降低成本、提升量产良率,减少设计迭代次数,缩短产品上市周期。

交付

IATF16949&ISO9001双体系
3大生产基地保障交付

深圳、南通、昆山三大制造基地,日产 5000+㎡,支持样品先行测试,常规订单 7-10 天交付,紧急订单可加急。 建立 IATF16949、ISO9001 双体系品控,执行原材料入厂、制程巡检、成品出货 3 重检验,配备二次元影像仪等全维度检测设备,不良品无条件免费补货,保障高端客户供应链稳定可靠。通过 ISO14001 环境体系认证,满足欧美客户 ESG 要求与全球供应链准入标准。

精密电铸加工 微米级成型能力

卓力达精密电铸加工,适用于精密金属滤网、微细孔结构、异形金属件、薄型金属部件及复杂微结构零件制造。
工艺精度高、边缘光洁,可根据图纸、样品或工况需求定制孔径、厚度、材质与表面状态,提供从打样到批量生产的一站式加工服务。