
电铸光阑片
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电铸光阑片依托原子级电化学沉积成型原理,搭配纳米级光刻对位技术,从根源解决传统加工方式带来的光学缺陷,满足精密光学系统严苛的使用标准。生产环节严格执行光学件无尘生产管控,选用高纯度镍基材,材质致密均匀,内应力低,不易发生形变,温变稳定性强,高低温环境下轮廓尺寸波动小。
采用超高精度光刻制版,准确复刻各类单孔、多孔阵列、异形孔径、复杂曲线轮廓,对位精度可达微米级,图形还原度高,杜绝轮廓失真、孔位偏移等问题。电铸成型阶段通过恒温恒压控制系统匀速沉积镍层,薄片厚度均匀可控,成型后经过精密抛光、去应力、光学黑化处理,降低表面反光,抑制杂散光反射。成品开孔边缘锐利无毛刺、侧壁平整,更大程度削弱衍射干扰,保障光学系统成像与检测稳定性。
可实现超薄基材、微小孔径、高密度阵列孔、非标准异形开孔加工,孔径与外形尺寸公差控制在微米级别,整片面平面度优异,不易翘曲变形。
能够根据客户光路设计需求,定制不同厚度、不同孔径排布、不同外形规格的光阑片,黑化处理可按需选择,进一步降低表面反光。电铸成型无侧蚀,孔径一致性好,批量生产的产品轮廓差异极小,适合大批量光学模组量产。
产品具备良好耐磨性能,长期使用轮廓不易磨损,保障光学设备长时间运行下成像稳定,满足仪器设备持续工作的需求。
用于工业检测镜头、视觉光源模组,准确控制通光量,提升检测成像清晰度
适配各类光谱仪、光学分析仪器,准确限制光束口径,保障检测数据准确
用于显微镜光路系统,调控光束大小,消除多余杂光
适配内窥镜、光学检测设备,满足小型化精密光路需求
适配相机光学模组光路遮光与光束调控,有效抑制杂散光干扰,优化成像质量,保障模组成像一致性。
同时广泛应用于激光光学、光电传感等场景,是精密光学系统不可或缺的核心遮光控光元件。
经验积淀
工艺迭代
快速交付
作为长三角电铸光学元件源头厂家,南通卓力达配备无尘电铸产线与精密光学检测设备,光刻制版、电铸成型、抛光、黑化处理、尺寸检测全流程自主管控,严格把控产品精度。
对比激光切割与蚀刻工艺,电铸一体成型无热影响区,边缘质量佳,有效减少衍射问题。
技术团队可依据客户光路图纸、孔径参数、使用环境定制专属光阑片方案,助力客户优化光学成像效果,减少杂光干扰,提升设备检测精度。持续为精密光学行业提供高精度、低杂光、高一致性的电铸光阑片一站式定制加工服务。
对金属板基材进行清洗、脱脂除油处理。
在基材表面涂覆一层感光涂层,即光刻胶。
采用紫外激光直接成像(LDI)对基材曝光,将 CAD 零件图形投射并转移至基材表面。曝光区域内光刻胶发生固化,使图形化的基材表面划分出导电区与非导电区。
由持证技术人员使用专用检测设备开展尺寸与外观检测,核实产品符合规格要求。
将电铸成型零件从母模上剥离分离。可通过调整电铸工艺获得不同产品特性。例如:采用薄光刻胶,让金属向外生长,零件厚度大于光刻胶厚度,零件外部轮廓由电沉积成型,该工艺叫做过生长电铸。
电沉积工序在电解槽内完成,包含阳极、阴极两组电极以及电解液。将母模置入电解槽,电极向电解液通入直流电。直流电使金属离子还原为金属原子,原子持续沉积在母模导电区域,直至金属达到目标厚度。
对图形化基材做显影处理,去除未曝光的光刻胶,裸露出导电区域;随后冲洗、烘干。完成图形化处理的基材自此称作母模(零件模芯)。
卓力达精密电铸加工,适用于精密金属滤网、微细孔结构、异形金属件、薄型金属部件及复杂微结构零件制造。
工艺精度高、边缘光洁,可根据图纸、样品或工况需求定制孔径、厚度、材质与表面状态,提供从打样到批量生产的一站式加工服务。
卷对卷蚀刻,又叫卷材连续化学蚀刻,是将成卷金属卷材不间断输送,连续完成涂布、曝光、显影、蚀刻、清洗、收卷的自动化化学腐蚀加工工艺,是精密金属零件量产的核心工艺,常用来加工卷材蚀刻滤网、引线框架、金属弹片、微孔带材。很多制造企业在大批量生产精密超薄金属件时,对比单张片式蚀刻,卓力达卷对卷蚀刻可以...... 【详情+】
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